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讯(记者宋维东)拓荆科技1月29日晚发布业绩预告，公司预计2022年实现营业收入16.5亿元至17.2亿元，同比增长117.69%至126.92%；预计实现归属于上市公司股东的净利润3.3亿元至4亿元，同比增长381.85%至484.06%；预计实现扣非净利润1.6亿元至1.9亿元，同比实现扭亏为盈。

拓荆科技表示，报告期内，受益于国内半导体行业良好的发展态势，国内半导体行业设备需求增加；同时，公司继续加大产品研发投入，产品结构不断优化，产品竞争力持续增强，进一步拓展客户群体，销售订单大幅增加，营业收入维持高增长趋势。此外，在公司持续加大研发投入的情况下，期间费用率有所下降，规模效应驱动公司盈利水平提高，公司经营业绩实现较大幅度增长。

成立至今，拓荆科技一直专注于高端半导体薄膜设备的研发生产，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列，已广泛应用于国内集成电路制造产线。

拓荆科技现已发展为国内领先的高端半导体薄膜设备厂商，是目前国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商，也是国内领先的ALD设备厂商。公司产品的核心技术及关键性能指标均已达到国际先进水平。公司作为本土供应商，为客户提供定制化产品，满足客户差异化需求，并提供及时、快速的售后服务，市场规模不断扩大。

根据此前披露的信息，为进一步完善业务发展布局，拓荆科技拟出资设立全资子公司，该子公司将主要围绕公司现有主营业务开展相关经营活动。拓荆科技表示，该子公司的成立，是基于公司未来发展规划考虑，促进未来发展战略实施，围绕主营业务不断扩大规模，在高端半导体薄膜设备领域持续深耕，围绕CVD技术做深做精，并不断在细分领域内拓展产品、工艺覆盖面，增强盈利能力，提升公司综合竞争力。